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        [常見(jiàn)問(wèn)題解答]氮化鎵MOSFET的性能特點(diǎn)與局限性[ 2025-04-21 14:49 ]
        氮化鎵(GaN)MOSFET作為一種新型的功率器件,因其優(yōu)異的性能在眾多領(lǐng)域中得到了廣泛應(yīng)用。一、氮化鎵MOSFET的主要性能特點(diǎn)1. 高電子遷移率氮化鎵材料的電子遷移率顯著高于傳統(tǒng)硅材料,這使得GaN MOSFET具有更高的導(dǎo)電能力。這一特性對(duì)于提高開(kāi)關(guān)速度和電流傳輸效率至關(guān)重要。特別是在高頻率應(yīng)用中,GaN MOSFET能夠提供更快的響應(yīng)時(shí)間和更低的開(kāi)關(guān)損耗,從而在高速電力電子系統(tǒng)中表現(xiàn)出色。2. 寬禁帶寬度氮化鎵的寬禁帶寬度(約為3.4 eV)使其能夠承受更高的工作溫度和電壓。在高功率和高溫應(yīng)用中,GaN M
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        [常見(jiàn)問(wèn)題解答]MOS管的帶載能力如何增強(qiáng)[ 2024-03-04 17:12 ]
        如何增強(qiáng)MOS管的帶載能力呢?增強(qiáng)MOS管的帶載能力是通過(guò)優(yōu)化器件的設(shè)計(jì)和選擇適合的工作條件來(lái)實(shí)現(xiàn)的。下面將詳細(xì)介紹如何增強(qiáng)MOS管的帶載能力。1. 選擇合適的材料:MOS管的材料選擇對(duì)其帶載能力有很大影響,常用的MOS管材料有硅、碳化硅和氮化硅等。不同材料具有不同的特性,硅材料具有高電子遷移率和較低的電阻,適用于高頻應(yīng)用;碳化硅具有高電子飽和速度和高電壓傳導(dǎo)能力,適用于高功率應(yīng)用;氮化硅具有高溫特性和較高的能帶間隙,適用于高溫和高電壓應(yīng)用。因此,根據(jù)實(shí)際需求選擇合適的材料可以提高M(jìn)OS管的帶載能力。2. 優(yōu)化通道
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        [常見(jiàn)問(wèn)題解答]高電子遷移率晶體管(HEMT)資料[ 2019-10-31 10:21 ]
        高電子遷移率晶體管(HEMT,High Electron Mobility Transistor) :HEMT是一種異質(zhì)結(jié)場(chǎng)效應(yīng)晶體管(HFET),又稱為調(diào)制摻雜場(chǎng)效應(yīng)晶體管(MODFET)、二維電子氣場(chǎng)效應(yīng)晶體管(2-DEGFET)、選擇摻雜異質(zhì)結(jié)晶體管 (SDHT)等。這種器件及其集成電路都能夠工作于超高頻(毫米波)、超高速領(lǐng)域,原因就在于它采用了異質(zhì)結(jié)及其中的具有很高遷移率的所謂二維電子氣來(lái)工作的。上世紀(jì)70年代采用MBE 和MOCVD就制備出了異質(zhì)結(jié)。1978年Dingle等首先證實(shí)了在AlGaAs/GaA
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        地 址/Address

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