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        [常見問題解答]高壓SiC MOSFET柵氧老化行為研究及加速測試方法探索[
                                        2025-04-16 14:55
                                        ]
        
                                
        
                                    在高電壓、高溫、高頻的電力電子應用中，碳化硅MOSFET因其出色的材料特性逐漸取代傳統硅基器件，成為高壓領域的核心選擇。然而，器件的長期可靠性依然是制約其大規模應用的關鍵因素，特別是柵極氧化層的老化行為及其導致的性能退化問題，已成為研究和工業界共同關注的技術焦點。一、SiC MOSFET柵氧老化機制概述相較于硅器件，SiC MOSFET采用熱氧化工藝形成的柵極氧化層存在較多界面缺陷，源于碳原子在氧化過程中的難以完全去除。這些殘留的碳相關缺陷在高場高溫條件下會加速電子捕獲，導致閾值電壓漂移、柵漏電流上升，嚴重時甚至引
        
                                
        
                                    
                                        http://m.kannic.com/Article/gysicmosfe_1.html3星
        
                            
        
                        
                    
                    
                    
                    
        
                    
        
                    
                    
                    
                    
                
        
            
        
        
        
        
        
            
        
        
        
        
        
        
    
        
    
    
    

        
    
        
        
        
        
        
            
        
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                深圳辦事處地址：深圳市福田區寶華大廈A1428
        
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